第一八二五章 尼康45nm干式光刻机横空出世

第一八二五章 尼康45nm干式光刻机横空出世 (第2/2页)

现任会长森佳照明坚持沿着既定的技术路线稳步推进，只要能率先研发成功45nm制程干式光刻机，才能一举扭转被动局面，就能继续引领全球光刻机的发展方向；研究所所长兼副总裁小川郁子和财务副总裁兰布林支持森佳照明的决定。
　　
　　副总裁诺利克建议公司放弃干式光刻机路线，投资研发浸润式光刻机。
　　
　　常务副总裁原田弘树建议公司两条腿走路。
　　
　　吉田一郎支持森佳照明等人的意见，抓紧时间研发45nm制程干式光刻机。
　　
　　去年5月，Nikon研制的NSR-S308F干式光刻机量产，配备尼康公司自研的Polano偏振照明系统后，能够满足65nm制程的光刻需求。
　　
　　SELETE购买了2台。
　　
　　“魏总，等DSP-100在市场上发酵一周后，我们再向外公布3360i，7月下旬量产，开始预订。”
　　
　　按照浸润理论，采用浸润式技术，193nm波长可以穿透纯净水，最高实现22nm的精度，浸润式技术还可以获得更好的景深。不需要真空或氮气条件，不需要更换掩膜，不需要更换光刻胶。
　　
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　　蔡司公司为2250i设计了新的物镜，方便更换镜头，发明了浸润罩（immersionhood）技术，将一片很小的水面保持在镜头下方，上下接触而不会溢出。由于光照会影响水的温度，需要保持流水，同时水流控制还要避免旋涡和水泡。
　　
　　BSEC光刻机研究院研究了杂质的来源，设法将原来的4000个缺陷减少为零。将镜头和晶圆浸水之前，先用表面活性液体浸泡，减少沾染。在晶圆的边缘设置密封环（sealring），避免水溢出，消除漩涡，将杂质带走，降低缺陷率。另一个方法是通过曝光流程的优化，大幅度降低不可复原的缺陷数量。
　　
　　浸润式技术在曝光时需要将镜头和晶圆曝光区域浸入水中，量测时却需要晶圆上没有水。双工作台系统不光将量测和曝光两道工序分开，还将干式量测和浸润曝光分开，几乎是为浸润式光刻机量身定做的。
　　
　　BSEC光刻机自动化研究所先后为2250i和3360i升级了磁悬浮式双工作台系统。
　　
　　BSEC在研发成功TWINSCANBNT:2250i后，向中国专利局和世界专利局同时申请了9项技术专利，其中2项核心技术专利。
　　
　　157nm光波的干式光刻机对环境要求相对简单，不需要考虑液体介质的纯度、流动性、对光刻胶和晶圆的影响等相关问题，工艺控制相对容易，设备的维护和保养也相对简单一些。
　　
　　由于157nm光波存在吸收效应，不能用水作为浸润介质，需要价格昂贵的氟化钙镜头，导致同制程的157nm光刻机比浸润式光刻机贵50%左右。
　　
　　“好的，董事长！”
　　
　　魏建国笑了。
　　
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