第一八二五章 尼康45nm干式光刻机横空出世

第一八二五章 尼康45nm干式光刻机横空出世 (第1/2页)

6月2日上午，孙健在办公室，从PN（鲲鹏网）首页上看到一则一百多字的新闻（转载GPN）：尼康45nm干式光刻机横空出世！立马引起了他的眼球，尼康公司今日公开宣布，尼康公司同SELETE合作，在65nm制程工艺干式光刻机NSR-S308F的基础上，经过一年多的努力，研制成功45nm干式光刻机DSP-100；同时宣布，尼康公司将联合SELETE、尔必达、东芝、富士通公司，投资2350亿日元（相当于20亿美元），在东京都千代田区建设全球第一条45nm制程工艺的半导体生产线。
　　
　　GCA控股的GPN（地理鲲鹏网）早就进入日本，但没有进入中国；PENG控股的PN没有进入美国和日本等西方国家和地区；GPN和PN在世界各地共有4000多名记者，为了节约成本，共享新闻资源等，2000年1月16日，双方签订了资源共享合作协议，无偿转载对方的新闻报道等。
　　
　　美西方国家发生的大事，中国等东南亚国家发生的大事，在中国或美国的网民，第一时间就能从PN或GPN上看到。
　　
　　半导体前沿技术公司研发协会（SELETE）是1996年3月，由富士通、日立、松下、三菱电机、NEC、冲电气、三洋电机、夏普、索尼、东芝、尼康和佳能等13家半导体公司，每家出资5亿日元成立的半导体技术共同开发公司。
　　
　　美国成立SEMATECH，致使日本失去半导体行业第一的位置后，成立SELETE是日本半导体产业界为了重回全球第一所做的尝试，组织采用分层组织结构，领头推动整个研发进展，领导三大前沿技术的研发：前端工艺，后端工艺，用于65nm和45nm制程工艺的光刻和掩模工艺。
　　
　　尔必达（ELPIDA）如今是日本唯一一家动态随机存取存储器（DRAM）生产企业，1999年由日立、NEC和三菱电机的DRAM业务整合成立，2004年在东京证券交易所主板上市。其DRAM业务占据全球市场份额第三，主要供应戴尔、索尼等PC厂商。
　　
　　前世没有听说过尼康45nm干式光刻机！
　　
　　全球光刻机的历史进程已经改变！
　　
　　孙健不仅不担心，反而眼前一亮，BSEC雪藏了一年多的45nm制程的浸润式光刻机TWINSCANNXT:3360i，终于可以光明正大的面世了。
　　
　　打电话让魏建国了解详细情况？
　　
　　“董事长，邓院长说，尼康DSP-100干式光刻机虽然采用尼康公司自研的157nm波长激光器，但配备尼康公司自研的Polano偏振照明系统后，能够满足45nm制程的光刻需求，但同我们的3360i相比，他们有两个短时间很难解决的缺陷，一是氟化钙镜头的良品率低，价格昂贵，导致DSP-100的市场价定价会比我们贵50%左右；二是如今没有同45nm制程干式光刻机相匹配的磁悬浮式双工作台系统，工作效率会低15%左右。虽然尼康公司占据先发优势，但一旦3360i公布于众，英特尔和AMD都不会购买DSP-100。”
　　
　　魏建国从邓国辉那里得到准确的消息后，向孙健汇报，话语中透着轻松和自信，他们也不担心。
　　
　　BSEC光刻机研究院从去年4月就已经开始研发32nm制程的浸润式光刻机，今年3月就生产出了试验样机。
　　
　　去年7月18日，全球第一条65nm半导体生产线在PGCA量产的消息传到尼康公司，上下震动很大，虽然尼康研发成功的65nm制程的干式光刻机NSR-S308F随时可以量产，由于各方面的原因，当时没有国际晶圆厂家愿意订购，力推157nm波长干式光刻机发展方向的顾问吉田一郎召集公司高管商议对策。
　　
　　

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