第3667章 193浸润式微影技术

第3667章 193浸润式微影技术 (第2/2页)

“在这两种方案的对比下，Sematech美方非企业组织显然觉得，ASML可以和Nikon和Canon进行同质化研发，这样至少可以保持住ASML在光刻机领域的世界前三强的位置，制约东洋。”
　　
　　在90年ASML推出PAS5500之前，ASML在全球光刻机领域的市场份额，几乎可以忽略不提，而且自从成立起就一直处于亏损状态，整整亏损了六年。
　　
　　这里面幸亏有飞利浦持股27.4%的台积电的订单，不然ASML生产出来的PAS步进机，根本就没有人买。
　　
　　而从PAS5500开始，只是靠着这一款产品，ASML就一路挤掉全球诸多的光刻机企业，成为全球第三。
　　
　　也正是凭借着PAS5500的亮眼表现，让欧洲和老m突然对有可能超过Nikon和Canon，成为全球光刻机霸主，充满了一种热血的冲动和渴望，不愿意在这个领域受制于人。
　　
　　连忙不请自来的屁颠屁颠的到处串联，于97年组建Sematech联盟。
　　
　　到了99年开始收购硅谷集团（SVG），这是美国本土唯一的一家大型光刻机企业，ASML更是超过Canon，一跃成为光刻机领域排名世界第二，仅次于Nikon。
　　
　　也正是这种危机感，让Nikon和Canon这两家东洋企业不计前嫌的联手，研发下一代的157nm光刻机。
　　
　　而英特尔，摩托罗拉，AMD等看到这一幕，向Nikon和Canon提出了休战合议，就是组建EUV-LLC联盟（极紫外光刻技术），由这些公司投资参股Nikon和Canon剥离光刻机部门，这种简直就是抢劫的行为，东洋那边一片骂声，当然不会同意。
　　
　　当年的广场协定，可把东洋坑的不轻，这次自然不愿意再当上当的傻比。
　　
　　于是英特尔，摩托罗拉，AMD这些企业又找到ASML，提出可以提供资金研发EUV光刻机，才有了ASML现在的路线争论。
　　
　　“还有对雕刻源的选择，除了DUV和EUV，XPL（X射线近场光刻）、电子束光刻和离子投影光刻，这四种雕刻源代表着四个不同的方向，全球都有企业和研发机构在推进这些雕刻技术。不过除了这些，目前在公司里面呼声最高的是193nm浸润式光刻技术。”
　　
　　赵长安听的愣了一下，有点惊讶的望着萧扬名。
　　
　　“在去年底的全球SPIE微光刻会议上，MIT的报告表明，在纯水环境157nm技术有着太多的难题和不稳定性，然而对于193nm，则和空气中的数据几乎没有任何的区别。”
　　
　　萧扬名说道：“长安你可能没太明白这个报告的意义，其实只要你事后稍微想一下就明白了，尤其你也是微电子专业。这也就是意味着可以利用成熟的193nm工艺，浸润式微影技术将镜头与晶圆的介质从折射率n~1的空气，改成ｎ=1.44的水（对应波长为193纳米光），形同将波长等效缩小为134纳米。这样就解决了这个最根本的波长问题。”
　　
　　“这个技术呼声最高的是飞利浦，英特尔，卡尔蔡司，这些EUV-LLC联盟成员。因为一旦成功，ASML的市场份额就会从全球第二，进入全球第一，而且把Nikon和Canon甩开一个断层。不过这个技术上的难题依然很多，同样是即使投入大量的资源，也不能说就一定可以研发成功。”